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最新情報-特許法等の一部改正の施行について -2020年03月09日

産業財産権に関する訴訟制度を改善するほか、デジタル技術を活用したデザインの保護などの意匠制度の強化を中心とする「特許法等の一部を改正する法律案」が成立し、2020年4月1日から施行されることが決定いたしました。

特許法の一部改正

特許権の侵害の可能性がある場合に、中立の立場の技術専門家が、現地調査を行う特許権の侵害立証のために必要な調査を行い、裁判所に報告書を提出する制度(査証)のを創設。

損害賠償額算定方法を見直し、特許権者の生産能力等を超えるとして賠償が否定されていた部分について、侵害者にライセンスしたとみなし損害賠償を請求できること、ライセンス料相当額による損害賠償額の算定にあたり権利者の保護を強化。

実用新案法、意匠法及び商標法において、損害賠償額の算定につき同様の改正を実施。

意匠法の一部改正

保護対象を拡充し、物品に記録・表示されていない画像、建築物の外観・内装のデザインを保護。

自己の意匠(本意匠)に類似する関連意匠の登録を認める制度を改正し、関連意匠の出願可能期間を、本意匠の登録の公表日まで(8か月程度)から、本意匠の出願日から10年以内までに延長。

関連意匠にのみ類似する意匠の登録を認める。

意匠権の存続期間を、 「登録日から20年」から「出願日から25年」に変更。

意匠登録出願手続を簡素化し、・複数の意匠の一括出願や、物品の名称を柔軟に記載するための物品の区分の廃止。

間接侵害の規定を拡充し、取り締まり回避の目的で、侵害品を分割して製造・輸入等する行為を取り締まり。

商標

公益団体等(自治体、大学等)が、自身を表示する著名な商標権のライセンスを認める等の措置。

特許法等の一部を改正する法律(令和元年5月17日法律第3号) 特許庁


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